Nemokamas pristatymas nuo 29€

  • check 10 + milijonai knygų
  • check Naujienos (kiekvieną dieną)
  • check 1 + mln. klientų mus pasitiki
  • check Geros kainos % Nuolaidos
  • check Nemokamas pristatymas nuo 29 eur

Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes - Tien-Chien Jen,Sina Karimzadeh,Oluwatobi Adeleke

Anglų
2023-12-15
363,02 € 484,02 €

-25% su kodu BOOKS

Turime sandėlyje pas mūsų tiekėją

Pristatymas per 17-23 d.d.

30 dienų grąžinimo politika

This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposition and presents detailed information on modelling, optimization, and prediction of the behaviour and characteristics of ALD for improved process quality control.

Jums taip pat gali patikti

Aprašymas

This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposition and presents detailed information on modelling, optimization, and prediction of the behaviour and characteristics of ALD for improved process quality control.

Daugiau informacijos

Autorius Tien-Chien Jen, Sina Karimzadeh, Oluwatobi Adeleke
Leidėjas CRC Press
Išleidimo metai 2023
Viršelio tipas Kieti viršeliai
EAN 9781032386706
Parašykite savo atsiliepimą
Jūs peržiūrėjote: Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes
Jūsų įvertinimas:

Goodreads Atsiliepimai

363,02 € 484,02 €